High Purity Gas Stainless Steel Pneumatic Diaphragm Valve 1/4 inch Tekanan Dhuwur
Deskripsi Produk
Spesifikasi Pneumatic Diaphragm Valve
| Data Teknis | ||
| Ukuran port | 1/4" | |
| koefisien discharge (Cv) | 0.2 | |
| Tekanan kerja maksimal | Manual | 310 bar (4500 psig) |
| Pneumatik | 206 bar (3000 psig) | |
| Tekanan kerja aktuator pneumatik | 4.2~6.2 bar (60~90 psig) | |
| suhu kerja | PCTFE: -23 ~ 65 ℃ (-10 ~ 150 ℉) | |
| Tingkat kebocoran (helium) | ing njero | ≤1×10-9 mbar l/s |
| njaba | ≤1×10-9 mbar l/s | |
| Alur data | ||
| udhara @ 21 ℃（70℉）） banyu @ 16℃（60℉） | ||
| Penurunan tekanan bar tekanan udara maksimum (psig) | hawa (lmin) | banyu (l/min) |
| 0.68 (10) | 64 | 2.4 |
| 3.4 (50) | 170 | 5.4 |
| 6.8 (100) | 300 | 7.6 |
Proses reresik
▶ standar (WK-BA)
Kabeh sambungan sing dilas kudu di resiki miturut spesifikasi reresik lan kemasan standar perusahaan.
Nalika pesen, ora perlu nambah sufiks
▶ Pembersihan oksigen (WK-O2)
Reresik produk lan spesifikasi kemasan kanggo lingkungan oksigen bisa diwenehake.Produk iki cocog karo
syarat kebersihan astmg93c.Nalika pesen, tambahake - O2 sawise nomer pesenan
▶Kemurnian ultra dhuwur (WK-EP)
Bisa nyedhiyani Rampung lumahing kontrol, electropolishing Ra0 telulas μm.Diionisasi
reresik ultrasonik banyu.Kanggo pesen, tambah - EP sawise nomer pesenan
Kabeh sambungan sing dilas kudu di resiki miturut spesifikasi reresik lan kemasan standar perusahaan.
Nalika pesen, ora perlu nambah sufiks
▶ Pembersihan oksigen (WK-O2)
Reresik produk lan spesifikasi kemasan kanggo lingkungan oksigen bisa diwenehake.Produk iki cocog karo
syarat kebersihan astmg93c.Nalika pesen, tambahake - O2 sawise nomer pesenan
▶Kemurnian ultra dhuwur (WK-EP)
Bisa nyedhiyani Rampung lumahing kontrol, electropolishing Ra0 telulas μm.Diionisasi
reresik ultrasonik banyu.Kanggo pesen, tambah - EP sawise nomer pesenan
 | Bahan struktural utama | ||
| nomer seri | unsur | tekstur saka materi | |
| 1 | nangani | alumunium | |
| 2 | Aktuator | alumunium | |
| 3 | Batang katup | 304 SS | |
| 4 | Bonnet | S17400 | |
| 5 | Kacang bonnet | 316 SS | |
| 6 | Tombol | kuningan | |
| 7 | diafragma (5) | Paduan nikel kobalt | |
| 8 | kursi katup | PCTFE | |
| 9 | awak katup | 316L SS | |
Ukuran lan informasi pesenan
Tipe langsung
ukuran
Ukuran ing inci (mm) mung kanggo referensi
ukuran
Ukuran ing inci (mm) mung kanggo referensi
| Nomer pesenan dhasar | Jinis lan ukuran port | ukuran (mm) | |||
| A | B | C | L | ||
| WV4H-6L-TW4- | Pipa 1/4" -W | 0.44 (11.2) | 0.30 (7.6) | 1.12 (28.6) | 1.81 (45.9) |
| WV4H-6L-FR4- | 1/4″ FA-MCR | 0.44 (11.2) | 0.86 (21.8) | 1.12 (28.6) | 2.85 (72.3) |
| WV4H-6L-MR4- | 1/4″ MA-MCR1/4 | 0.44 (11.2) | 0.58 (14.9) | 1.12 (28.6) | 2.85 (72.3) |
| WV4H-6L-TF4- | OD | 0.44 (11.2) | 0.70 (17.9) | 1.12 (28.6) | 2.85 (72.3) |
Industri sing melu
TFT-LCD
Proses gas khusus sing digunakake ing proses deposisi CVD saka proses manufaktur TFT-LCD yaiku silane (S1H4), amonia (NH3), fosfin (PH3), nitrous oxide (N2O), NF3, lan liya-liyane, hidrogen kemurnian dhuwur lan dhuwur. nitrogen kemurnian lan gas akeh liyane uga melu ing proses.Argon digunakake ing proses sputtering, lan film sputtered mbentuk gas minangka bahan utama kanggo sputtering.Kaping pisanan, gas pembentuk film ora bisa bereaksi karo target, lan gas sing paling cocog yaiku gas inert.A jumlah gedhe saka gas khusus uga bakal digunakake ing proses etching, nalika gas khusus elektronik biasane kobong, mbledhos lan Highly beracun, supaya syarat kanggo sirkuit gas lan teknologi dhuwur banget.Teknologi Wofei duwe spesialisasi ing desain lan instalasi sistem transmisi gas khusus kemurnian ultra-dhuwur.
Gas khusus utamané digunakake ing film mbentuk lan proses etching garing ing industri LCD.Ana pirang-pirang jinis LCD, ing antarane yaiku TFT-LCD minangka teknologi LCD sing paling akeh digunakake amarga wektu respon sing cepet, kualitas gambar sing dhuwur lan biaya sing luwih murah.Proses manufaktur panel TFT-LCD bisa dipérang dadi telung tahap: array ngarep, sel tengah lan modul modul mburi.Gas khusus elektronik utamané digunakake ing film mbentuk lan orane tumrap sekolah etching garing saka proses Uploaded ngarep.Sawise pirang-pirang proses mbentuk film, film non-logam SiNx lan film logam kayata kothak, sumber, saluran lan ITO masing-masing disimpen ing substrat.
Q1.Apa babagan lead time?
A: Sample perlu 3-5 dina, wektu produksi massal perlu 1-2 minggu kanggo jumlah pesenan luwih saka
Q2.Apa sampeyan duwe watesan MOQ?
A: Low MOQ 1 pic.
Q3.Kepiye cara ngirim barang lan suwene tekan?
A: Kita biasane dikirim dening DHL, UPS, FedEx utawa TNT.Biasane njupuk 5-7 dina.Maskapai lan kapal laut uga opsional.
Q4.Kepiye carane nerusake pesenan?
A: Pisanan ayo padha ngerti syarat utawa aplikasi.
Kapindho Kita ngutip miturut syarat utawa saran kita.
Katelu customer nandheske conto lan panggonan simpenan kanggo pesenan resmi.
Fourthly Kita ngatur produksi.
Tulis pesen sampeyan ing kene lan kirimake menyang kita
